Resumen

El objetivo del presente estudio fue aumentar y mejorar el proceso de osteointegración de los implantes sin comprometer el proceso de cicatrización mediante la utlización de la terapia de fotobioestimulación con láser de diodo (Epic X®) de 940nm  de longitud  de onda.  La medición de la estabilidad de los implantes se obtuvo por medio de análisis de frecuencia de resonancia, una técnica no invasiva que nos permite medir en escala ISQ el proceso de osteointegración de los implantes. La utlización del láser de diodo de 940nm nos permite aumentar la tasa de éxito, mejorar la predictibilidad en la terapia de implantes, disminuir el dolor y la inflamación posoperatoria,  acelerar el proceso de cicatrización de los tejidos blandos y del tejido óseo por medio de la fotobioestimulación, obteniendo también un efecto antimicrobiano de descontaminación para ofrecer una mejor calidad a nuestros tratamientos beneficiando a los pacientes.

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